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什么是二极管的正向额定电流？二极管的额定电流是二极管的主要标称值，比如5A/100V的二极管，5A就是额定电流。通常额定电流的定义是该二极管所能通过的额定平均电流。但是有些的测试前是方波，也就是可以通过平均值为5A的方波电流。有些得测试前提是直流，也就是能通过5A的直流电流。理论上来说，对于硅二极管，以方波为测试条件的二极管能通过更大的直流电流，因为同样平均电流的方波较于直流电流，会给二极管带来更大损耗。那么5A的二极管是否一定能通过5A的电流？不一定，这个和温度有关，当你的散热条件不足够好，那么二极管能通过的电流会被结温限制。2.什么是二极管的反向额定电压？二极管反向截止时，可以承受一定的反压，那么其高可承受的反压就是额定电压。比如5A/100V的二极管，其额定反压就是100V。虽然，所有二极管厂家都会留一定的裕量，100V的二极管通常用到110V都不会有问题，但是不建议这么用，因为超过额定值，厂家就不会保证其可靠性，出了问题就是你的问题了。而且很多电源设计公司，为了保障可靠性，还会降额设计。3.什么是二极管的正向冲击电流？开关电源在开机或者其他瞬态情况下，需要二极管能够承受很大的冲击电流而不坏。上海藤谷电子科技有限公司致力于提供二极管，竭诚为您服务。上海正规二极管价格优惠

因氧化层开设有防水凹槽，即便环境中存在水汽，水汽在侵入时也会聚集在防水槽1031，不会进入到肖特基结，进一步确保肖特基二极管不会失效。在本申请实施例的一种可能的实施方式中，衬底101和外延层102可以为n型半导体层，半导体环104可以为p型半导体环。在本申请实施例的另一种可能的实施方式中，衬底101和外延层102可以为p型半导体层，半导体环104可以为n型半导体环。在本申请实施例中，在衬底101和外延层102为n型半导体层，半导体环104为p型半导体环时，衬底101可以为重掺杂半导体层，衬底101的电阻率可以为ω·cm；外延层102可以为轻掺杂半导体层，外延层102的电阻率可以为ω·cm，其中，外延层102的厚度可以为5μm－30μm。防水槽1031可以是一种规则形状的凹槽，也可以是不规则形状的凹槽。例如图1及图2所示，防水槽1031可以是u型槽，也可以是v型槽，当然还可以是其他形状的凹槽或者不同形状凹槽的组合。防水槽1031的深度小于氧化层103的厚度。在本申请实施例中，肖特基结108由多层金属组成，具体地，该多层金属可以包括ti、ni、ag等。请参照图3，本申请实施例还提供一种用于制造上述肖特基二极管10的制造方法，该制造方法包括以下步骤：步骤s301，请参照图4a。四川品质二极管费用上海藤谷电子科技有限公司为您提供二极管，期待您的光临！

电子元件家族当中，有一种只允许电流由单一方向流过，具有两个电极的元件，称为二极管，英文是“Diode”，是现代电子产业的基石。电子学习资料大礼包早期的二极管早期的二极管包含“猫须晶体”(CatsWhiskerCrystals)和真空管(ThermionicValves)。1904年，英国物理学家弗莱明根据“爱迪生效应”发明了世界上只电子二极管——真空电子二极管。它是依靠阴极热发射电子到阳极实现导通。电源正负极接反则不能导电，它是一种能够单向传导电流的电子器件。早期电子二极管存在体积大、需预热、功耗大、易破碎等问题，促使了晶体二极管的发明。晶体二极管又称半导体二极管。1947年，美国人发明。在半导体二极管内部有一个PN结和两个引出端。这种电子器件按照外加电压的方向，具备单向电流的传导性。现今普遍的二极管大多是使用半导体材料如硅或锗。晶体二极管结构晶体二极管的是PN结，关于PN结首先要了解三个概念。本征半导体：指不含任何掺杂元素的半导体，如纯硅晶片或纯锗晶片。P型半导体：掺杂了产生空穴的含较低电价杂质的半导体，如在本征半导体中Si(4+)中掺入Al(3+)的半导体。N型半导体：掺杂了产生空穴的含较低电价杂质的半导体，如在本征半导体中硅Si(4+)中掺入磷P。

本发明实施例通过在n型ge层淀积氮化硅层产生压应力从而使n型ge层内产生压应力，n型ge层内通过施加压应力引起能带结构的调制，反映在能带图上就是导带底的曲率发生改变，即改变了导带电子的有效质量，引起各散射机制中散射概率的改变，进而提高了n型ge层内的电子迁移率。进一步地，将ge层中引入应力的方式还有通过掺杂和热失配等，与通过掺杂和热失配等引入应变的方式相比而言，氮化硅层致ge层应变的工艺更加简单，且不会因为晶格失配产生大量缺陷，故而能够得到质量更好的压应变ge层，因此可以提高制备的肖特基二极管器件的性能。具体地，在ge层002中的应力大小与压应力层003的制备条件相关，具体地，其他工艺条件不变的情况下，压应力层003反应温度越高，压应力层003使ge层002中的产生的应力越大，且呈一定的线性关系。在其他工艺条件不变的情况下，压应力层003使ge层002中的产生的应力越小。在其他工艺条件不变的情况下，低频功率越大，形成压应力层003使ge层002中的产生的应力越大。设fwg为氮化硅层使所述ge层002中产生的压应力大小，则fwg和温度tp的关系满足：fwg＝×fwg的单位为pa，twg的单位为摄氏度。具体地，在其他工艺条件不变的情况下，压强越高。上海藤谷电子科技有限公司致力于提供二极管，有想法可以来我司咨询。

可以使用h2so4：h2o2＝5:1的化学试剂去除光刻胶。，在半导体环图案对应区域注入离子，经扩散炉中退火处理在半导体环图案对应区域形成半导体环104。具体地，可以在半导体环图案对应区域注入离子(比如硼离子)，使用h2so4：h2o2＝5:1的化学试剂去除表面沾污，然后送入扩散炉，经过1000℃退火，形成半导体环104。步骤s304，请参照图4d，将半导体环104之间的氧化层103蚀刻掉，在蚀刻后形成的区域中制作肖特基结108。在氧化层103远离衬底101的一侧涂覆光刻胶层。通过带有肖特基结图案的掩模对光刻胶层进行光刻，在光刻胶层上刻出肖特基结图案。再接着，蚀刻肖特基结图案对应区域的氧化层103。具体地，使用腐蚀溶剂boe(nh4f40％+hf7％)，在211℃的温度条件下，透过肖特基结图案对氧化层103进行腐蚀，将光刻胶层上的半导体环图案转移到氧化层103上。用化学试剂sc2(hcl:h2o2:h2o＝1:1:6-1:2:8)清洗20分钟，去除表面颗粒，然后用hf的水溶液漂30秒去除肖特基结图案内残余氧化层103。，通过物相淀积法，在肖特基结图案对应区域淀积金属和硅形成金属硅化物，得到肖特基结108。通过物相淀积金属(ti/ni/pt/nipt/cr/nicr等金属)，金属淀积后放入扩散炉中退火处理。二极管，就选上海藤谷电子科技有限公司，有需求可以来电咨询！河南正规二极管价格对比

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